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화웨이 창업자 인재발굴 노력…中 명문대 잇따라 방문

송고시간2020-08-02 12:33

미국 제재 돌파할 핵심 열쇠로 인재 양성 판단

푸단대·자오퉁대·난징대·둥난대 방문

런정페이 [EPA=연합뉴스 자료사진]

런정페이 [EPA=연합뉴스 자료사진]

(베이징=연합뉴스) 김윤구 특파원 = 중국 화웨이 창업자 런정페이(任正非)가 최근 사흘 동안 중국 명문대학들을 잇달아 방문했는데 이는 글로벌 기술 경쟁 격화 속에 인재 양성의 중요성을 부각하는 것이라고 중국 관영 글로벌타임스가 2일 보도했다.

런정페이는 지난달 29∼31일 상하이에 있는 상하이자오퉁(교통)대학과 푸단대학, 난징의 둥난(東南)대학, 난징대학을 찾아 전문가들과 산업 연구 협력과 첨단기술 인재 양성, 기초 연구와 기술 발전 등에 관해 토론했다.

통신업계 전문가인 샹리강(項立剛) 정보소비연맹 이사장은 이 대학들이 글로벌 경쟁에 핵심적인 통신과 첨단기술 산업의 인재를 육성하고 훈련하는 곳이라고 설명했다.

이번 방문은 미국의 제재 속에 인재 양성이 화웨이의 문제를 해결할 핵심 열쇠로 떠오른 가운데 나왔다고 글로벌타임스는 전했다.

ykim@yna.co.kr

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